| 发明名称 |
基板内に構造を作製するためのシステム |
| 摘要 |
本発明は、投影露光システムとリソグラフィマスクとを用いてウェハ内に構造を作製するためのシステムに関する。このシステムを用いてルールに基づくマスク調整を行うことにより、ＣＤ誤差に対する高周波数の寄与をほぼ完全に除去ことができる。本発明による補正のルールは、さらなる多大な努力を伴わずに有利に実行することができる。【選択図】図１ |
| 申请公布号 |
JP2016524182(A) |
申请公布日期 |
2016.08.12 |
| 申请号 |
JP20160513362 |
申请日期 |
2014.05.15 |
| 申请人 |
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー |
发明人 |
パトラ ミヒャエル |
| 分类号 |
G03F7/20;G02B5/00;G02B19/00 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
