一种均匀蒸镀装置

摘要

本实用新型公开了一种均匀蒸镀装置，包括蒸镀源及位于蒸镀源上方的可旋转镀锅，该镀锅围绕旋转中心设置若干用于放置晶片的镀环，该镀环的外圆圆径大于晶片尺寸，内圆区域形成蒸镀口，其中该镀环是偏心环且内圆圆心相对于外圆圆心向镀锅旋转中心的反方向偏移。在镀锅旋转离心力作用而使晶片向远旋转中心的方向偏移时，通过偏心镀环将偏移量修正回来，使预设蒸镀区域与蒸镀口重合，有效避免了预设蒸镀区域的偏移而导致的边缘不均匀及蒸镀材料的残留，提高了良率，具有重要的应用意义。

主权项

一种均匀蒸镀装置，包括蒸镀源及位于蒸镀源上方的可旋转镀锅，该镀锅围绕旋转中心设置若干用于放置晶片的镀环，该镀环的外圆圆径大于晶片尺寸，内圆区域形成蒸镀口，其特征在于：该镀环是偏心环，其内圆圆心相对于外圆圆心向镀锅旋转中心的反方向偏移。