| 摘要 |
리소그래피 투영 장치를 사용하여 설계 레이아웃의 부분을 기판 상에 이미징하도록 리소그래피 프로세스를 개선하기 위한 컴퓨터-구현 방법으로서, 상기 리소그래피 프로세스의 특성인 복수 개의 설계 변수의 다변수 비용 함수를 계산하는 단계, 및 선정의된 종료 조건이 만족될 때까지 상기 설계 변수를 조절하여 상기 리소그래피 프로세스의 특성을 재구성하는 단계를 포함하는, 리소그래피 프로세스를 개선하기 위한 컴퓨터-구현 방법이 개시된다. 다변수 비용 함수는 하나 이상의 패턴 시프트 에러의 함수일 수 있다. 특성의 재구성하는 것은 하나 이상의 패턴 시프트 에러에 대한 하나 이상의 제약 하에 이루어질 수 있다. |
