| 摘要 |
【課題】マイクロ波を照射した場合に発生する容器内の位置毎の加熱のばらつきを低減させることが可能な処理装置を提供する。【解決手段】回転形状を有しており、この回転形状の回転の中心となる中心軸が伸びる方向に第一の端部１０１１と第二の端部１０１２とを有する容器１０１と、容器１０１の第一の端部１０１１側の中心軸上の位置から容器１０１内にマイクロ波を照射する照射部１０３と、容器１０１の第二の端部１０１２の中心軸上に設けられた導波管１０４であって、長さが、導波管１０４内における照射部１０３が照射するマイクロ波の半波長の倍数である導波管１０４と、を備えた処理装置である。【選択図】図１ |
