发明名称 噻唑化合物及其制备方法
摘要 本发明公开了新的噻唑类化合物及其药物上可以接受的盐,还公开了这类化合物的制备方法以及作为药物的应用。
申请公布号 CN1043936A 申请公布日期 1990.07.18
申请号 CN90100083.3 申请日期 1990.01.04
申请人 藤泽药品工业株式会社 发明人 高杉寿;西野重孝;田中明人
分类号 C07D277/22;C07D417/06;C07D417/04;A61K31/44;A61K31/495 主分类号 C07D277/22
代理机构 中国专利代理有限公司 代理人 孟八一;林玉贞
主权项 1、一种以下式表示的化合物及其药学上可接受的盐:<img file="901000833_IMG1.GIF" wi="913" he="587" />式中R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>各自为卤素、低级烷氧基、低级烷硫基或低级烷基亚硫酰基,A为低级亚烷基、羰基或单键,Z为可含有适宜取代基的杂环基,下式的基团:<img file="901000833_IMG2.GIF" wi="393" he="193" />式中R<sup>3</sup>和R<sup>4</sup>各自为氢、可含有杂环基或哌啶基的低级烷基,所述杂环上含有适宜取代基,或Z为下式基团:<img file="901000833_IMG3.GIF" wi="487" he="353" />式中(1)R<sup>5</sup>、R<sup>6</sup>和R<sup>7</sup>各自为氢、低级烷基或环(低级)烷基;(2)R<sup>5</sup>为氢、低级烷基或环(低级)烷基,以及R<sup>6</sup>和R<sup>7</sup>同与之连接的氮原子连接在一起形成可含有适宜取代基的杂环基;或(3)R<sup>5</sup>和R<sup>6</sup>连接在一起形成低级亚烷基,以及R<sup>7</sup>为氢;其前提是:当Z为下式基团时,A为低级亚烷基或羰基,<img file="901000833_IMG4.GIF" wi="300" he="207" />式中R<sup>3</sup>和R<sup>4</sup>的定义同前。
地址 日本大阪府大阪市