发明名称 | 磁控电弧离子镀膜法 | ||
摘要 | 本发明应用磁控电弧离子镀膜装置,以磁场控制的电弧燃烧使各种金属、合金等镀膜材料蒸发,电离,变成高能量、高密度的等离子体,在工件负偏压的条件下,与通入的氧气、乙炔气等反应,可在金属或非金属工件上产生不同颜色的金属或化合物薄膜沉积。本发明可镀工件范围广,特别是用于工艺品镀膜,色彩鲜艳,耐用抗磨,成本低,生产效率高,有广泛的使用领域。 | ||
申请公布号 | CN1043961A | 申请公布日期 | 1990.07.18 |
申请号 | CN89105513.4 | 申请日期 | 1989.08.21 |
申请人 | 机械电子工业部北京机械工业自动化研究所 | 发明人 | 田大准;周以仁;汪小平;田羌风 |
分类号 | C23C14/32 | 主分类号 | C23C14/32 |
代理机构 | 机械电子工业部机械专利服务中心 | 代理人 | 杨涵影;徐晓琴 |
主权项 | 1、一种磁控电弧离子镀膜法,使用磁控离子镀膜装置,将装置内抽真空,对镀膜材料(阴极)施以特定磁场和屏蔽,使其蒸发、电离、加速变成高能量、高密度的等离子体再对工件施加负偏压和通入反应气体,等离子体与通入的反应气体作用,在工件表面沉积成膜,其特征是;1).反应前,控制装置的真空度为(1~5)10-3Pa,2).镀膜材料(阴极)可采用金属、合金靶极或石墨靶极,3).反应气体可为氩气(Ar)、氮气(N2)、氧气(O2)、乙烯、乙炔,4).控制靶极燃烧的弧流为(60~500)安培,对工件施加的负偏压为(-20~-500)V。 | ||
地址 | 北京市西城区百万庄南里一号 |