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发明名称 Herstellverfahren für eine Siliziumoxid-Schicht auf einer Topographie
摘要
申请公布号 DE19600305(A1) 申请公布日期 1997.07.10
申请号 DE19961000305 申请日期 1996.01.05
申请人 SIEMENS AG, 80333 MUENCHEN, DE 发明人 TOEBBEN, DIRK, DR., 80796 MUENCHEN, DE;GROTELOH, DOERTHE, 85521 OTTOBRUNN, DE;SPINDLER, OSWALD, DR., 85591 VATERSTETTEN, DE;ROGALLI, MICHAEL, DR., 84056 ROTTENBURG, DE
分类号 B32B9/00;H01L21/31;H01L21/316;H01L21/768;(IPC1-7):C23C26/00;C23C16/40 主分类号 B32B9/00
代理机构 代理人
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