发明名称 | 横型异质结双极三极管及其制造方法 | ||
摘要 | 一种横型异质结双极三极管及其制造方法是由积层Si基板、BOX层以及半导体层形成所谓的SOI构造。然后,在半导体层中,具有由硅构成的集电极、围绕集电极的SiGeC/Si层、n型多晶硅构成的发射极和外部基极层。内部基极层由Si<SUB>1-x-y</SUB>Ge<SUB>x</SUB>C<SUB>y</SUB>层构成。利用异质结构造,可以将内部基极层低阻抗化,并且可以抑制通过外延生长形成由Si<SUB>1-x-y</SUB>Ge<SUB>x</SUB>C<SUB>y</SUB>层构成内部基极层中的杂质的扩散。该二极管具有寄生电容和寄生阻抗小、可以将内部基极层低阻抗化。 | ||
申请公布号 | CN1294414A | 申请公布日期 | 2001.05.09 |
申请号 | CN00130023.7 | 申请日期 | 2000.10.23 |
申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 幸康一郎;久保实 |
分类号 | H01L29/737;H01L29/735;H01L21/331 | 主分类号 | H01L29/737 |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汪惠民 |
主权项 | 1.一种横型异质结双极三极管,其特征是包括具有绝缘层的基板、在所述绝缘层上设置的台面状的第1半导体层、在所述第1半导体层的侧面通过外延生长形成和所述第1半导体层的带隙不同的第2半导体层、在所述第2半导体层的侧面通过外延生长形成和所述第2半导体层的带隙不同的第3半导体层,所述第2半导体层的至少一部分成为第2导电型的内部基极层。 | ||
地址 | 日本大阪府 |