发明名称 RESIN COMPOSITION CURED FILM AND PATTERNED CURED FILM FORMED FROM SAME METHOD FOR PRODUCING CURED FILM AND METHOD FOR PRODUCING PATTERNED CURED FILM
摘要 하기 (a)성분, (b)성분 및 (c)성분을 함유하는 수지 조성물. (a)하기 식(1)으로 표시되는 구조 단위를 가지는 폴리이미드 전구체; (b)노광부 표면 가용화제; (c)활성 광선 조사에 의하여 라디칼을 발생하는 화합물(식(1) 중, R는 4가의 유기기이고, R는 2가의 유기기이고, R및 R는 각각 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 시클로알킬기, 또는 탄소 탄소 불포화 이중 결합을 가지는 1가의 유기기이다.)
申请公布号 KR20160126974(A) 申请公布日期 2016.11.02
申请号 KR20167018975 申请日期 2015.02.17
申请人 HITACHI CHEMICAL DUPONT MICROSYSTEMS LTD. 发明人 ONO KEISHI;ENOMOTO TETSUYA;TANIMOTO AKITOSHI;OHE MASAYUKI;SUZUKI KEIKO
分类号 C08G73/10;C08L79/08 主分类号 C08G73/10
代理机构 代理人
主权项
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