发明名称 EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD
摘要 노광 장치에는, XY 평면을 따라 이동할 수 있고, 또한 서로 접근 및 이간될 수 있는 제 1 부분과 제 2 부분을 포함하는 조동 스테이지 (WCS1), 웨이퍼 (W) 를 유지하고, 또한 조동 스테이지 (WCS1) 에 의해 적어도 XY 평면 내에서 상대 이동가능하게 지지되는 미동 스테이지 (WFS1), 및 조동 스테이지 (WCS1) 에 의해 지지된 미동 스테이지 (WFS1) 를 단독으로 혹은 조동 스테이지 (WCS1) 와 일체로 구동시키는 구동계가 구비된다. 또한, 노광 장치에는, 조동 스테이지 (WCS1) 로/로부터 미동 스테이지 (WFS1) 를 전달할 수 있는 릴레이 스테이지 (DRST) 가 구비된다.
申请公布号 KR20160096227(A) 申请公布日期 2016.08.12
申请号 KR20167021190 申请日期 2009.12.18
申请人 NIKON CORPORATION 发明人 SHIBAZAKI YUICHI
分类号 H01L21/027;G03F7/20 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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