发明名称 METHOD OF CULTURING ORGANISM TO BE CULTURED AND CULTURING FACILITY
摘要 수위를 조정할 수 있는 양식 영역(3)에 저면으로부터 소정 높이를 갖도록 설치된 양식 선반(10)에, 패류 등의 피양식 생물(8)을 설치하고, 양식 영역(3)의 수위를 조정한다. 이것에 의해 양식 선반(10)의 피양식 생물(8)을 수면으로부터 노출시키는 간출 상태와, 피양식 생물(8)을 수중에 수몰시킨 수중 상태에서 수위를 제어하고, 피양식 생물(8)의 생존과 성장에 최적인 수위로서 양식 기간의 단축화와 고수온기의 감모의 억제를 가능하게 한다.
申请公布号 KR20160126966(A) 申请公布日期 2016.11.02
申请号 KR20167001351 申请日期 2015.02.20
申请人 YANMAR CO., LTD. 发明人 NAIKI TOSHIHITO;KATO MOTOICHI
分类号 A01K61/00;A01K74/00 主分类号 A01K61/00
代理机构 代理人
主权项
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