发明名称 Verfahren zum Bilden einer Wärmedämmstruktur und deren Verwendung
摘要 Die Erfindung beschreibt ein Verfahren zum Bilden einer Wärmedämmstruktur mit mindestens einer Wärmedämmschicht auf einem Substrat, die aus pulver- oder partikelförmigen Ausgangsmaterialien aufgebaut ist, wobei zwischen Substrat und Wäremdämmschicht eine Zwischen- oder Haftschicht aufgebracht wird, das dadurch gekennzeichnet ist, daß zum Bilden der Wärmedämmschicht(en) das Ausgangsmaterial thermisch auf dem Substratmaterial beschichtet wird, wobei die einzelnen Partikel in einer Flamme auf eine solche Temperatur gebracht werden, daß, zumindest ein Teil des Pulvers der eingesetzten Pulverfraktion, bei dem es sich um die Pulverpartikel mit dem kleineren Durchmesser handelt, nahezu durchgeschmolzen ist und der andere Teil der Pulverfraktion, bei dem es sich um die Pulverpartikel mit dem größten Durchmesser handelt, nur oberflächlich angeschmolzen wird, wobei durch den Grad des Anschmelzens dieses Pulverteils die Porenstruktur gezielt eingestellt wird.
申请公布号 DE10022157(C1) 申请公布日期 2002.01.03
申请号 DE20001022157 申请日期 2000.05.09
申请人 DEUTSCHES ZENTRUM FUER LUFT- UND RAUMFAHRT E.V. 发明人 THALER, HEIKO
分类号 C23C4/02;C23C4/12;C23C28/00;(IPC1-7):C23C4/12;C23C4/10 主分类号 C23C4/02
代理机构 代理人
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