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发明名称 POLYMERIC COMPOUND FOR PHOTORESIST AND RESIN COMPOSITION FOR PHOTORESIST
摘要
申请公布号 KR20020008144(A) 申请公布日期 2002.01.29
申请号 KR1020017012565 申请日期 2001.09.29
申请人 发明人
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
主权项
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