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发明名称 PHOTORESISTS AND PROCESSES FOR MICROLITHOGRAPHY
摘要
申请公布号 EP1141777(B1) 申请公布日期 2009.01.07
申请号 EP19990971104 申请日期 1999.10.26
申请人 E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY 发明人 SCHADT, FRANK, LEONARD, III;FRYD, MICHAEL;PERIYASAMY, MOOKKAN
分类号 C08F290/04;G03F7/039;G03F7/004;G03F7/38;H01L21/027 主分类号 C08F290/04
代理机构 代理人
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