成像设备

摘要

本发明提供一种能够抑制由在显示板中产生的前-后温差引起的电子束的入射位置的波动，从而能够实现不受这种温差影响的高质量显示的平板成像设备。在其中前板和背板由隔离物支承的成像设备中，从前板到背板的热传导路径中的热阻分割比被抑制为0.5或更小，以降低由隔离物的高度方向上的温度分布引起的隔离物表面上的电阻分布，从而抑制从电子发射装置到阳极的电子束的入射位置的波动。

主权项

1、一种成像设备，包括：具有多个电子发射装置和向电子发射装置施加电压的布线的背板；与背板相对，并具有能够借助从电子发射装置发射的电子束通过辐射发光的发光部件和阳极电极的前板；设置在背板和前板的周边部分之间，并且与背板和前板一起构成真空容器的框架部件；和布置成与背板和前板接触，并被设置在由电流场限定的电位的隔离物，其中下述一般等式(1)中的Ψ0×Ψ2具有不超过0.05的正值：$\frac{\mathrm{\Delta x}}{\mathrm{Py}}={\Psi }_0\times {\Psi }_2\left(\frac{\mathrm{eEa}}{{\mathrm{kT}}^2}\frac{h}{\mathrm{Py}}\right){\mathrm{\Delta T}}_1---\left(1\right)$其中：Δx：在隔离物附近，电子束的入射位置的位移[m]；Py：在垂直于隔离物表面的方向上，电子发射装置的间距[m]；e：单位电荷[C]；Ea：隔离物的电阻的活化能[eV]；h：隔离物的高度[m]；k：玻尔兹曼常数[J/K]；T：前板和背板的平均外表面温度[K]；Ψ0：由下述一般等式(2)表示的隔离物的热阻分割比：Ψ0＝Rhsp/(Rhcfp+Rhsp+Rhcrp) (2)Rhcfp：隔离物和前板之间的热阻[m2K/W]；Rhsp：隔离物的热阻[m2K/W]；Rhcrp：隔离物和背板之间的热阻[m2K/W]；Ψ2：由下述一般等式(3)表示的隔离物敏感度：Ψ2＝γ/20 (3)γ：由h/x0表示的隔离物场影响系数；x0：隔离物电场的影响距离[m]。