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发明名称
曝光装置及元件制造方法
摘要
提供一种曝光装置,可以所希望的状态进行液体的供给及回收,且可抑制投影至基板上的图案像的劣化。曝光装置具备喷嘴构件(70),及防振机构(60)。喷嘴构件(70)具有供给液体(LQ)的供给口(12)与回收液体(LQ)的回收口(22)。防振机构(60)是相对于主柱(1)的下侧段部(7)防振支撑着喷嘴构件(70)。
申请公布号
TW200532772
申请公布日期
2005.10.01
申请号
TW094108912
申请日期
2005.03.23
申请人
尼康股份有限公司
发明人
原英明
分类号
H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
詹铭文;萧锡清
主权项
地址
日本
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