利用抗反射涂布底层于基材形成孔洞之方法

摘要

本发明揭露一种能够选择性地形成图样，以于基材中制作孔洞的方法和系统。首先，利用第一罩幕，在涂盖于基材上的第一光阻层中形成第一组孔洞，再于第一光阻之上形成抗反射显影涂布底层，将孔洞一并填补。接着，于抗反射涂布底层之上形成第二光阻层，利用第二罩幕直接对底下的抗反射涂布底层做曝光，于第二光阻层中形成第二组孔洞，抗反射涂布底层中曝过光的部分接着会被移除。随后，在移除了抗反射涂布底层用以填补孔洞，且曝过光的部分之后，便利用第一光阻层中的一个，或更多的孔洞来形成基材中的孔洞。