摘要 |
Ein Behandlungsgerät für eine mit einem dielektrisch behinderten Plasma zu behandelnde Oberfläche, mit einem Gehäuse (1), das eine Stirnwand (14, 14') aufweist, mit einer zur zu behandelnden Oberfläche durch ein wenigstens einen Teil der Stirnwand (14, 14') bildendes Dielektrikum (19, 34) abgeschirmten Elektrode (18, 33), die mit einem Hochspannungsgenerator (17) verbindbar ist, wobei die Stirnwand (14, 14') wenigstens einen Abstandshalter (29, 29') aufweist, mit dem beim Anliegen des wenigstens einen Abstandshalters (29, 29') an der zu behandelnden Oberfläche wenigstens ein Gasraum gebildet wird, in dem sich für die Behandlung das dielektrisch behinderte Plasma ausbildet, ermöglicht die gleichzeitige Behandlung mit dem dielektrisch behinderten Plasma und dosierte Zuführung eines Behandlungsmittels dadurch, dass auf der von der zu behandelnden Oberfläche abgewandten Seite der Stirnwand (14, 14') eine mit einem Behandlungsmittel füllbare Vorratskammer (25, 25') angeordnet ist, dass die Stirnwand (14, 14') Durchgangsöffnungen (28, 28') aufweist und dass die Vorratskammer (25, 25') in ihrem Volumen so verkleinerbar ist, dass bei der Verkleinerung des Volumens Behandlungsmittel durch die Durchgangsöffnungen (28, 28') in den Bereich der zu behandelnden Oberfläche gelangt. |