凹球面基底胶体涂覆装置

摘要

本实用新型公开了一种凹球面基底胶体涂覆装置，包括：基台；载物台，设于基台上，所述载物台用于装载待喷涂凹球面基底，并可带动凹球面基底旋转，旋转中心轴与凹球面对称轴重合；可移动式光刻胶喷头，所述可移动式光刻胶喷头沿凹球面的半径喷射，所述可移动式光刻胶喷头可在凹球面内部移动以调整喷射角度，且喷涂距离不变，所述喷射角度为喷射方向与曲面对称轴之间的角度；加热单元，其加热面与凹球面基底的外表面相适配，对基底进行加热，加热单元置于所述载物台上。本实用新型可对半球凹曲面进行胶体涂覆，并且涂覆的胶层均匀性高。

主权项

凹球面基底胶体涂覆装置，其特征在于，包括：基台；载物台，设于基台上，所述载物台用于装载待喷涂凹球面基底，并可带动凹球面基底旋转，旋转中心轴与凹球面对称轴重合；可移动式光刻胶喷头，所述可移动式光刻胶喷头沿凹球面的半径喷射，所述可移动式光刻胶喷头可在凹球面内部移动以调整喷射角度，且喷涂距离不变，所述喷射角度为喷射方向与曲面对称轴之间的角度；加热单元，其加热面与凹球面基底的外表面相适配，对基底进行加热，所述加热单元置于所述载物台上。