Verfahren zum Polieren einer Oberfläche, Verfahren zur Herstellung eines reflektierenden optischen Elements, sowie optische Anordnung

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Polieren einer Oberfläche (3) eines optischen Elements, umfassend: Polieren der Oberfläche (3) mit einem Poliermittel (6) derart, dass die Oberfläche (3) nach dem Polieren in einem vorgegebenen, für den Streulichtanteil der Oberfläche (3) des optischen Elements relevanten Ortswellenlängenbereich eine vorgegebene Rauheit aufweist, die durch die Korngröße des Poliermittels gezielt eingestellt werden kann. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zum Herstellen eines reflektierenden optischen Elements, bei dem auf die nach dem weiter oben beschriebenen Verfahren polierte Oberfläche (3) eine reflektierende Beschichtung aufgebracht wird, sowie eine optische Anordnung, insbesondere ein Projektionsobjektiv für die Lithographie, bevorzugt für die EUV-Lithographie.