阻障层移除后的无晶圆自动清洁

摘要

提供一种用以形成介电层中的图样与开启多数晶圆的阻障层，以及在处理与移除该些晶圆的每一晶圆后清洁一蚀刻室的方法。将该些晶圆的其中之一放置在蚀刻室中，其中该晶圆具有位于该晶圆上的阻障层以及位于该阻障层上的介电层。蚀刻该介电层。开启该阻障层。从该蚀刻室移除该晶圆。提供该蚀刻室不需该晶圆的一种无晶圆自动清洁。该无晶圆自动清洁包含：将包含氧气与氮气的无晶圆自动清洁气体供应至该蚀刻室，以及由该无晶圆自动清洁气体形成无晶圆自动清洁电浆，以清洁该蚀刻室。