| 发明名称 |
Device for coating a substrate |
| 摘要 |
The apparatus for coating a substrate (4) in a receptacle (1) with sputter cathodes (5, 6) and targets (7, 8) is characterized by a mechanism (12) for adjusting the axial distance between the two cathodes (5, 6). |
| 申请公布号 |
AU2134099(A) |
申请公布日期 |
1999.10.07 |
| 申请号 |
AU19990021340 |
申请日期 |
1999.03.22 |
| 申请人 |
BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AG |
发明人 |
GOTZ TESCHNER;ALFONS ZOLLER;RALF FABER;SEIGFRIED BEISSWENGER;GUNTER BRAUER |
| 分类号 |
C23C14/34;C23C14/35;H01J37/34 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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