发明名称 JUNCTION-GATE FIELD-EFFECT TRANSISTOR WITH MORE HIGHLY DOPED CONNECTING AREA
摘要 <p>Der Sperrschicht-Feldeffekttransistor umfaßt einen Halbleiterbereich (10) mit einem Innengebiet (13). Innerhalb des Halbleiterbereichs (10) sind außerdem ein erstes und ein zweites Verbindungsgebiet (22) bzw. (32) angeordnet. Das erste Verbindungsgebiet (22) hat den gleichen Leitungstyp wie das Innengebiet (13), allerdings in einer höheren Dotierungskonzentration. Das zweite Verbindungsgebiet (22) hat den gegenüber dem Innengebiet (13) entgegengesetzten Leitungstyp. Dadurch wird eine Reduzierung des Durchlaßwiderstands bei gleichzeitiger Wahrung einer hohen Sperrspannungsfestigkeit erreicht.</p>
申请公布号 WO2000038246(A1) 申请公布日期 2000.06.29
申请号 DE1999004019 申请日期 1999.12.17
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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