可调节输入气体温度的制程设备

摘要

本发明揭露了一种可调节输入气体温度的半导体制程设备。此制程设备包含一反应室与一气体温度控制装置，反应室系输入气体并以该气体之电浆状态进行制程反应，而气体温度控制装置于该气体输入至该反应室前调整该气体之温度使该气体之温度与反应室内之温度大致接近。