| 发明名称 | 照射形状的测量方法、掩模 | ||
| 摘要 | 一种照射形状的测量方法，包含以下步骤：将主尺标记(32)按照既定排列依序曝光于基板上，然后将以既定排列配置的多个主尺标记(32)构成的基准格子，形成于基板上的至少一个照射区域内；将具有在照射区域内以既定排列配置的多个副尺标记(34)的被测量照射，透过投影光学系统曝光于基板上；测量相邻的主尺标记(32)彼此的相对位置关系；测量主尺标记(32)与副尺标记(34)的偏移量；及根据相对位置关系来校正基准格子，且从校正后的基准格子与偏移量算出被测量照射的照射形状。 | ||
| 申请公布号 | CN101040367A | 申请公布日期 | 2007.09.19 |
| 申请号 | CN200680001029.5 | 申请日期 | 2006.03.23 |
| 申请人 | 尼康股份有限公司 | 发明人 | 近藤信二郎 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01);G03F1/08(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 寿宁 |
| 主权项 | 1、一种照射形状的测量方法，其特征在于包含以下步骤：将主尺标记按照既定排列依序曝光于基板上，然后将以该既定排列配置的多个该主尺标记构成的基准格子，形成于基板上的至少一个照射区域内；将具有在该照射区域内以该既定排列配置的多个副尺标记的被测量照射，透过投影光学系统曝光于基板上；测量相邻的主尺标记彼此的相对位置关系；测量该主尺标记与副尺标记的偏移量；及根据该相对位置关系来校正该基准格子，且从校正后的基准格子与该偏移量算出该被测量照射的照射形状。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||