发明名称 Process chamber cleaning method
摘要 공정챔버 세척방법의 일 실시예는, F(플로오르) 함유가스와 N가스가 설정된 비율로 혼합된 세척가스를 형성하는 세척가스형성단계; 상기 세척가스를 반응기로 유입하는 제1세척가스유입단계; 상기 세척가스에 전원을 인가하여 상기 세척가스의 적어도 일부를 플라즈마 상태로 변환하는 제1플라즈마형성단계; 상기 세척가스를 공정챔버로 유입하는 제2세척가스유입단계; 및 상기 공정챔버에 유입된 상기 세척가스가 상기 공정챔버 내부의 증착물을 식각하여 제거하는 세척단계를 포함할 수 있다.
申请公布号 KR101650104(B1) 申请公布日期 2016.08.22
申请号 KR20140184672 申请日期 2014.12.19
申请人 주성엔지니어링(주) 发明人 이용현;김도형;유광수;정철우;최원조
分类号 H01L21/02;H01L21/302 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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