发明名称 金刚烷衍生物、其制造方法及光阻用感光材料
摘要 本发明系提供一种特别是作为,使用准分子(excimen)雷射光、或电子束(electron beam)之微细加工时为适当之光阻用感光材料所使用之光阻用树脂等机能性树脂之单体为有用的金刚烷衍生物,可有效制造此者之方法、及具该特性之含该金刚烷衍生物之光阻用感光材料。其特征为具有一般式(I)094114919-p01.bmp(式中,R代表氢原子、甲基或三氟甲基、Y代表碳数1~10之烷基、卤原子、羟基或2个Y同时形成之=O。又,复数之Y可互为相同、或相异者。k为0~15之整数,m为0或1、n为1~3之整数。)所示构造之使金刚烷衍生物、卤烷基羧酸金刚烷酯类与(甲基)丙烯酸类或其酸酐进行反应后,制造该一般式(I)之金刚烷衍生物之方法、及含有由该金刚烷衍生物所得聚合物之光阻用感光材料。094114919-p01.bmp
申请公布号 TW200600489 申请公布日期 2006.01.01
申请号 TW094114919 申请日期 2005.05.09
申请人 出光兴产股份有限公司 发明人 伊藤克树;田中慎司;大野英俊;山直良
分类号 C07C13/615 主分类号 C07C13/615
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本