| 发明名称 | 膜形成方法、光电装置的制造方法及电子设备 | ||
| 摘要 | 一种膜形成方法、光电装置的制造方法及电子设备，该膜形成方法，包括：涂敷工序，喷出液状体并在基板上涂敷；干燥工序，在所述涂敷工序后所述液状体中含有的溶剂的蒸发量超过40重量％之前，利用干燥装置对涂敷在所述基板上的所述液状体进行干燥，基于液状体从开始喷出的经过时间来测定所述蒸发量。 | ||
| 申请公布号 | CN100456110C | 申请公布日期 | 2009.01.28 |
| 申请号 | CN200610004893.2 | 申请日期 | 2006.01.12 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 蛭间敬 |
| 分类号 | G02F1/1337(2006.01);B05D1/00(2006.01);G02F1/133(2006.01) | 主分类号 | G02F1/1337(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李香兰 |
| 主权项 | 1、一种膜形成方法，其中，包括：涂敷工序，喷出液状体并在基板上涂敷；干燥工序，在所述涂敷工序后所述液状体中含有的溶剂的蒸发量超过40重量％之前，利用干燥装置对涂敷在所述基板上的所述液状体进行干燥，基于液状体从开始喷出的经过时间来测定所述蒸发量。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||