发明名称 |
半透明光电阴极的修复制备工艺 |
摘要 |
一种半透明光电阴极的修复制备工艺,用于半透明双碱光电阴极的修复,其特征在于所述修复制备工艺包括:在原半透明光电阴极制备过程中出现不良结果时,将光电倍增管的光窗玻璃外进行加热,致使先前形成的光电阴极分解析退。通过该修复制备工艺,能够实现双碱半透明光电阴极的制备良率达到百分之百。同时在进行光电阴极的分解退析后,不会影响光窗玻璃的透光性,其外形仍能保持色泽透亮的效果,同时光电阴极的性能佳,二次制备的合格率也大大提高。 |
申请公布号 |
CN101459021A |
申请公布日期 |
2009.06.17 |
申请号 |
CN200810172445.2 |
申请日期 |
2008.11.11 |
申请人 |
孙榕晴 |
发明人 |
孙宗慈 |
分类号 |
H01J9/50(2006.01)I;H01J9/12(2006.01)I |
主分类号 |
H01J9/50(2006.01)I |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
1. 一种半透明光电阴极的修复制备工艺,用于半透明双碱光电阴极的修复,其特征在于所述修复制备工艺包括:在原半透明光电阴极制备过程中出现不良结果时,将光电倍增管的光窗玻璃外进行加热,致使先前形成的光电阴极分解析退。 |
地址 |
100093北京市海淀区香山普安店201号 |