COMPOSITION FOR FORMING LOWER LAYER FILM

摘要

본 발명은 매립성이 우수하고, 승화물 양이 적은 것에 더하여, 에칭 내성이 우수하고, 굴절 계수 및 쇠퇴 계수의 값이 양호한 하층막을 형성할 수 있는 하층막 형성 조성물을 제공한다. 또한, (A) 소정의 구조 단위를 갖는 중합체와, (B) 부틸에테르기를 갖는 가교제와, (C) 용제를 함유하는 하층막 형성 조성물에 관한 것이다.