发明名称 |
腔室盖加热器环组件 |
摘要 |
本发明的实施例大致提供用于等离子体加工腔室的盖加热器。在一个实施例中,提供盖加热器组件,包括导热底座。所述导热底座具有平面环形,用于界定内部开口。所述盖加热器组件进一步包括:加热元件,所述加热元件布置于导热底座上;及绝缘的核心,所述绝缘的核心布置于横跨导热底座的内部开口。 |
申请公布号 |
CN103155118B |
申请公布日期 |
2016.11.09 |
申请号 |
CN201180049182.6 |
申请日期 |
2011.10.06 |
申请人 |
应用材料公司 |
发明人 |
A·H·乌耶;G·斯科特;K·K·余;M·N·格芮姆比戈安 |
分类号 |
H01L21/3065(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/3065(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
陆勍;侯颖媖 |
主权项 |
一种用于具有线圈组件的等离子体加工系统的盖加热器组件,包含:导热底座,其中所述导热底座具有平面环形,所述平面环形界定内部开口,其中所述内部开口的直径大于或至少等于所述线圈组件的尺寸;加热元件,所述加热元件布置于所述导热底座上;绝缘的中央核心,所述绝缘的中央核心布置为横跨所述导热底座的内部开口;及RF外罩,所述RF外罩为环,所述RF外罩布置于所述加热元件上;其中所述加热元件与所述线圈组件经安置,使得所述线圈组件的磁场导向所述内部开口内。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |