发明名称 腔室盖加热器环组件
摘要 本发明的实施例大致提供用于等离子体加工腔室的盖加热器。在一个实施例中,提供盖加热器组件,包括导热底座。所述导热底座具有平面环形,用于界定内部开口。所述盖加热器组件进一步包括:加热元件,所述加热元件布置于导热底座上;及绝缘的核心,所述绝缘的核心布置于横跨导热底座的内部开口。
申请公布号 CN103155118B 申请公布日期 2016.11.09
申请号 CN201180049182.6 申请日期 2011.10.06
申请人 应用材料公司 发明人 A·H·乌耶;G·斯科特;K·K·余;M·N·格芮姆比戈安
分类号 H01L21/3065(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I 主分类号 H01L21/3065(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 陆勍;侯颖媖
主权项 一种用于具有线圈组件的等离子体加工系统的盖加热器组件,包含:导热底座,其中所述导热底座具有平面环形,所述平面环形界定内部开口,其中所述内部开口的直径大于或至少等于所述线圈组件的尺寸;加热元件,所述加热元件布置于所述导热底座上;绝缘的中央核心,所述绝缘的中央核心布置为横跨所述导热底座的内部开口;及RF外罩,所述RF外罩为环,所述RF外罩布置于所述加热元件上;其中所述加热元件与所述线圈组件经安置,使得所述线圈组件的磁场导向所述内部开口内。
地址 美国加利福尼亚州