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发明名称 Sputtering target and method of manufacturing the same.
摘要
申请公布号 EP0374931(B1) 申请公布日期 1994.03.02
申请号 EP19890123704 申请日期 1989.12.21
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 发明人 SATOU, MICHIO;YAMANOBE, TAKASHI;KAWAI, MITSUO;KAWAGUCHI, TATSUZO;MITSUHASHI, KAZIHIKO;MIZUTANI, TOSHIAKI
分类号 C04B35/58;C04B35/645;C23C14/34;H01L21/203;H01L21/285;(IPC1-7):C04B35/58 主分类号 C04B35/58
代理机构 代理人
主权项
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