发明名称 超音波低应力精密抛光系统
摘要 本发明系有关于一种超音波低应力精密抛光系统,包含有:一研磨刀具,具有一长条状金属板,两面排列设有多数压电片,其中,该金属板两面之压电片系彼此交错设置,同一面的压电片彼此间相隔预定距离,且该等压电片系由一绝缘胶体包封于内;一研磨垫,贴置于该绝缘胶体;二压电驱动器,设置于该金属板两端,将该等压电片驱动至超音波状态,藉以使该研磨垫产生超音波之细微振动;藉此,可利用超音波之细微激振原理,产生行波或驻波而以极低的作用力作用于晶圆上,可适用于低介电常数整合铜金属制程之抛光需求。
申请公布号 TW200611782 申请公布日期 2006.04.16
申请号 TW093130789 申请日期 2004.10.11
申请人 国防部中山科学研究院 发明人 赖哲雄;郑友仁;蔡孟勋;范阳监;王镒兴;潘文珏
分类号 B24B1/04 主分类号 B24B1/04
代理机构 代理人 刘緖伦
主权项
地址 桃园县龙潭乡中正路佳安段481号