| 主权项 |
1.一种微影投影装置,其包括: -一辐射系统,用于提供一第一辐射投影光束; -第一可程式图案化构件,用以依据一第一所需图 案使该第一投影光束图案化; -一基板台,用以支撑一基板; -一投影系统,用以将形成图案的该第一投影光束 投影在该基板的一目标部分上, 其特征为,该装置进一步包括第二可程式图案化构 件,用以依据一第二所需图案图案化该辐射系统之 一第二投影光束; 该投影系统将该第二图案化投影光束投影于该基 板之该目标部分;以及 该第一图案化投影光束与该第二图案化投影光束 之强度系不同。 2.如申请专利范围第1项之微影投影装置,其中用于 个别可程式图案化构件的该等图案可为不同,使该 目标部分中的一子区域可曝光于以下任一光束:该 第一投影光束;该第二投影光束;两者皆不使用;以 及两者同时使用。 3.如申请专利范围第1或2项之微影投影装置,其中 该辐射系统包括一光束分割器,其系配置以提供该 第一投影光束与该第二投影光束,使该第一投影光 束与该第二投影光束具有不同之强度。 4.如申请专利范围第1或2项之微影投影装置,其中 配置有一可变衰减器,以至少调整该第一投影光束 与该第二投影光束以及该第一图案化投影光束与 该第二图案化投影光束之一的强度。 5.如申请专利范围第1或2项之微影投影装置,其中 该辐射系统包括第一与第二辐射源,其强度可独立 设定,该等辐射源分别供应该第一投影光束与该第 二投影光束。 6.如申请专利范围第1或2项之微影投影装置,其中 该第一图案化投影光束与该第二图案化投影光束 组合成一单一图案化投影光束,并藉由该投影系统 投影于该基板之该目标部分。 7.如申请专利范围第1或2项中任一项之微影投影装 置,其中该第一图案化投影光束与该第二图案化投 影光束系独立地投影至该基板之该目标部分上。 8.如申请专利范围第1或2项之微影投影装置,其中 该装置被调整,以将该等可程式图案化构件之至少 一可程式图案化构件所图案化的至少一第二曝光 投影于该基板之该目标部分。 9.一种微影投影装置之制造方法,其步骤包括: -制备一至少部分被一辐射感应材料层所覆盖的基 板; -利用一辐射系统提供一第一辐射投影光束; -利用第一可程式图案化构件赋予该第一投影光束 一第一图案式之断面; -将该第一图案化之辐射投影光束投影至该辐射感 应材料层之一目标部分, 其特征为: -提供一第二辐射投影光束; -提供第二可程式图案化构件,赋予该第二投影光 束一第二图案式之断面;以及 -将该第二图案化辐射投影光束投影至该辐射感应 材料层之该目标部分; 其中该第一图案化投影光束与该第二图案化投影 光束具有不同的强度。 图式简单说明: 图1显示依据本发明的一项具体实施例之一微影投 影装置; 图2显示依据本发明一项特定具体实施例的成像装 置之部分; 图3显示本发明使用的灰阶分级原理;以及 图4显示根据本发明另一项具体实施例的成像装置 之部分。 |
