| 摘要 |
亜鉛（Ｚｎ）、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）及び／又は珪素（Ｓｉ）、酸素（Ｏ）からなり、Ａｌの含有量がＡｌ２Ｏ３換算で０．１〜３．０ ｍｏｌ％、Ｍｇ及び／又はＳｉの総含有量がＭｇＯ及び／又はＳｉＯ２換算で２７〜７０ ｍｏｌ％、残部がＺｎのＺｎＯ換算の含有量であることを特徴とする焼結体。不活性ガス雰囲気又は真空下で焼結することにより、焼結体のバルク抵抗を低下させることができ、低屈折率の薄膜をＤＣスパッタリングにより成膜することのできる焼結体及びその製造方法を提供する。【選択図】なし |
