| 发明名称 |
フォトレジストパターン上にコーティングするための組成物 |
| 摘要 |
The present invention relates to an aqueous composition for coating over a photoresist pattern comprising a first water soluble compound comprising at least a silicon moiety and at least one amino group, and a second compound comprising at least 1 carboxylic acid group. The invention further relates to processes for using the novel invention. |
| 申请公布号 |
JP6012600(B2) |
申请公布日期 |
2016.10.25 |
| 申请号 |
JP20130521242 |
申请日期 |
2011.07.27 |
| 申请人 |
メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＭｅｒｃｋ Ｐａｔｅｎｔ Ｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ ｍｉｔ ｂｅｓｃｈｒａｅｎｋｔｅｒ Ｈａｆｔｕｎｇ |
发明人 |
ウー・ヘンペン;リー・メン;カオ・イー;イン・イアン;リー・ドンクワン;ホン・スン−ユン;パウネスク・マルガレタ |
| 分类号 |
G03F7/40;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/40 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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