| 发明名称 | 多层并排的高分辨率图案化 | ||
| 摘要 | 提供了一种器件制作方法，该器件包括：在单个基板上的第一位置处的第一图案化器件层(31)和在第二位置处的第二图案化器件层(32)。该方法包括：在基板上沉积第一夹层(21)；图案化第一夹层(21)，由此去除在第一位置处的第一夹层；沉积第一器件层(31)；沉积第二夹层(22)；图案化第二夹层和下面的层，由此去除在第二位置处的第二夹层和下面的层；沉积第二器件层(32)；以及随后图案化第一器件层和第二器件层以形成在第一位置处的第一图案化器件层和在第二位置处的第二图案化器件层。 | ||
| 申请公布号 | CN106133935A | 申请公布日期 | 2016.11.16 |
| 申请号 | CN201580016795.8 | 申请日期 | 2015.03.28 |
| 申请人 | IMEC 非营利协会;富士胶片株式会社 | 发明人 | 中村敦;柯统辉;P·马利诺夫斯基 |
| 分类号 | H01L51/00(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I | 主分类号 | H01L51/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 蔡悦 |
| 主权项 | 一种器件制作方法，所述器件包括：在基板(10)上的第一位置处的第一图案化器件层(311)和在第二位置处的第二图案化器件层(321)，所述方法包括：在所述基板(10)上沉积第一夹层(21)；图案化所述第一夹层(21)，由此去除在所述第一位置处的所述第一夹层；沉积第一器件层(31)；沉积第二夹层(22)；图案化所述第二夹层(22)和下面的层，由此去除在所述第二位置处的所述第二夹层和所述下面的层；沉积第二器件层(32)；以及随后图案化所述第一器件层(31)和所述第二器件层(32)以形成在所述第一位置处的所述第一图案化器件层(311)和在所述第二位置处的所述第二图案化器件层(321)。 | ||
| 地址 | 比利时勒芬 | ||