| 摘要 |
본 발명은 탄소 코팅된 구리 나노입자를 이용한 이중 저온-소결에 의한 고전도성 금속 막 또는 패턴 형성의 신규한 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 저온-소결 과정은 산화 과정과 환원 과정의 이중 단계로 실시되며, 보다 구체적으로는 5분 내지 30분 동안의 산화 과정과 5분 내지 30분 동안의 환원 과정으로 이루어진다. 상기 이중 저온-소결 과정을 통해 제조된 본 발명의 금속 막 또는 패턴은 상기 구리 나노입자의 넥 형성과 성장을 통해 낮은 전기저항 값을 가짐에 따라 고전도성 특징을 나타낸다. 따라서, 본 발명은 구리 나노입자 잉크/페이스트를 이용하여 기판, 보다 구체적으로는 유연기판에 고전도성 금속 막 또는 패턴을 형성시킬 수 있을 뿐 아니라, 종래에 이용되는 폴리머 물질에 비해 훨씬 좋은 전기적 특성을 나타내기 때문에 산업적으로 유용하게 적용될 수 있다. |
