发明名称 RESIST COMPOSITION METHOD OF FORMING RESIST PATTERN COMPOUND AND ACID GENERATOR
摘要 산의 작용에 의해 알칼리 현상액에 대한 용해성이 변화되는 기재 성분 (A) 및 노광에 의해 산을 발생하는 산발생제 성분 (B) 를 함유하는 레지스트 조성물로서, 상기 산발생제 성분 (B) 가 하기 일반식 (b1-11) 로 나타내는 화합물로 이루어지는 산발생제 (B1) 을 함유하는 레지스트 조성물. 식 (b-11) 중, R∼ R는 각각 독립적으로 아릴기 또는 알킬기이고, R∼ R중 어느 2 개가 서로 결합하여 식 중의 황 원자와 함께 고리를 형성하고 있어도 되고, R∼ R중 적어도 1 개는 치환기로서 하기 일반식 (I) 로 나타내는 기를 갖는 치환 아릴기이고, 식 (I) 중의 R는 불소화알킬기를 나타낸다.
申请公布号 KR101680891(B1) 申请公布日期 2016.11.29
申请号 KR20090063046 申请日期 2009.07.10
申请人 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 发明人 가와우에 아키야;우츠미 요시유키;세시모 다케히로;나카무라 츠요시;모토이케 나오토;시미즈 히로아키;마츠자와 겐스케;하다 히데오
分类号 G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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