具有多气体螺旋通道之喷气头

摘要

本发明涉及一种喷头设备，更具体的是一种多个气体螺旋通道的喷头，本发明还提供了一种用于化学气相沉积和／或氢化物气相磊晶（HVPE）沉积的方法和设备。在一个实施方式中，使用金属有机化学气相沉积（MOCVD）制程在多个基材上沉积Ⅲ族氮化物膜。Ⅲ族前驱物诸如三甲基镓、三甲基铝或三甲基铟以及含氮前驱物诸如氨被传送到隔离前驱物气体的多个螺旋通道中。前驱物气体被注入到混合通道中，这里气体在进入到含有基材的处理容积之前混合。