发明名称 凸块成形用非氰系电解镀金浴
摘要 依据本发明,系明示一凸块成形用非氰系电解镀金浴,其为含有由作为金源之亚硫酸金硷盐或亚硫酸金铵、结晶调整剂、亚硫酸钾所成的传导盐5~150g/L、与分子量为200~6000的聚烷二醇1mg/L~6g/L及/或两性界面活性剂0.1mg~1g/L与水溶性胺及/或缓冲剂所成。经图型化之晶圆上使用本发明之镀金浴进行电解镀金后,以200~400℃经由5分钟以上热处理,可形成皮膜硬度为50~90Hv、表面之高低差为1.8μm以下的凸块。
申请公布号 TW200925336 申请公布日期 2009.06.16
申请号 TW097129689 申请日期 2008.08.05
申请人 恩意坎卡股份有限公司 发明人 中村裕树;井上晃一郎
分类号 C25D3/48(2006.01);C25D7/12(2006.01);H01L21/288(2006.01);H01L21/60(2006.01) 主分类号 C25D3/48(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本