| 摘要 |
본 발명은 기판들을 처리하기 위한 프로세스 챔버 내 플라즈마를 검출하기 위한 방법 및 디바이스에 관한 것이다. 방법에서, 프로세스 챔버 내 압력은 시간 기간에 걸쳐 압력 센서에 의해 측정되고, 갑작스러운 압력 변화는 검출되고, 그리고 플라즈마의 점화 또는 소화(extinguishing)는 적어도 압력 변화에 기초하여 식별된다. 디바이스는 적어도 하나의 기판을 수용하기 위한 프로세스 챔버 ― 상기 프로세스 챔버는 적어도 하나의 플라즈마 생성기를 가짐 ―; 적어도 하나의 압력 센서가 프로세스 챔버 내의 압력을 검출할 수 있고 압력에 대응하는 출력 신호를 출력할 수 있도록 배열된 적어도 하나의 압력 센서, 및 적어도 하나의 평가 유닛을 포함한다. 평가 유닛은 시간 기간에 걸쳐 압력 센서의 출력 신호를 추적하고 압력 센서의 출력 신호의 적어도 하나의 갑작스러운 변화에 기초하여 플라즈마의 점화 또는 소화를 식별할 수 있다. |
