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Composés de formule I, II, III, IV et V où R1 est notamment cycloalcanoyle, alcanoyle, alcénoyle, benzoyle; R2 est notamment phényle, alkyle, cycloalkyle, alcanoyle, benzoylze; Ar1 est notamment R4S-phényle, NR5R6-phényle, R3'O23 (A), naphyle, anthracyle, benzoyle, naphalènecarbonyle, phénanthrénecarbonyle, anthracénecarbonyle, pyrènecarbonyle, 3,4, 5-triméthoxyphényle, phénoxyphényle, biphényle; Ar2 est notamment A, naphtyle, anthracyle; x = 2 ou 3; M1, pour x = 3, est un radical trivalent; M2 est notamment; M3 est notamment alkylène, cyclohexylène, phénylène; R3 est notamment H, alkyle; R3' est notamment alkyle; alkylesubstitué ou interrompu par -O-; R4 est notamment H, alkyle; et R5 et R6 sont indépendamment, entre autres, H, alkyle, phényle, qui conviennent comme photomorceurs, notamment pour des résists.
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