发明名称 |
多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液及蚀刻方法 |
摘要 |
对于将以1种液体对铜层和钼层的多层膜进行蚀刻的蚀刻液用于量产时而言重要的是:形状方面要求蚀刻后的边缘的截面形状是正锥而不是凹槽,并且蚀刻液中不产生析出物。由于含有过氧化氢、无机酸、酸性有机酸、中性有机酸、胺化合物和过氧化氢分解抑制剂的包含铜层和钼层的多层膜用蚀刻液不含有唑化合物,因此在与过氧化氢之间不生成反应物,蚀刻液中不产生析出物。而且,蚀刻后的边缘的截面形状能够制成优选的正锥形状。进而,由于也不含有磷化合物、氟化合物,因此在废弃时环境负担也轻。 |
申请公布号 |
CN105765107A |
申请公布日期 |
2016.07.13 |
申请号 |
CN201380081154.1 |
申请日期 |
2013.11.25 |
申请人 |
松下知识产权经营株式会社 |
发明人 |
着能真;小佐野善秀;渊上真一郎 |
分类号 |
C23F1/18(2006.01)I;C23F1/26(2006.01)I |
主分类号 |
C23F1/18(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇 |
主权项 |
一种多层膜用蚀刻液,所述多层膜包含铜层和钼层,其特征在于,其含有过氧化氢、无机酸、酸性有机酸、中性有机酸、胺化合物和过氧化氢分解抑制剂。 |
地址 |
日本大阪府 |