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经营范围
发明名称
METHOD AND APPARATUS FOR ETCHING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号
JPH04247622(A)
申请公布日期
1992.09.03
申请号
JP19910013162
申请日期
1991.02.04
申请人
NEC CORP
发明人
FURUNO NORIO
分类号
H01L21/306
主分类号
H01L21/306
代理机构
代理人
主权项
地址
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