| 摘要 |
Vakuumbehandlungsanlage zum Aufbringen dünner Schichten auf Substrate (36,38,40,42) mit einer Transferkammer (5) und mehreren an dieser peripher angeordneten und mit dieser jeweils über eine gemeinsame Öffnung (27,29,31,33) zum Ein- und Ausschleusen der Substrate (36,38,40,42) verbundenen Behandlungskammern (6,8,10,12) und mit einer Handlingseinrichtung (24) zum Transport der Substrate (36,38,40,42) zwischen den Behandlungskammern (6,8,10,12), wobei die Handlingseinrichtung (24) mindestens einen Substrathalter (37,39,41,43) mit einem schwenk- und/oder rotierbaren Halteteil zur Aufnahme der Substrate (36,38,40,42) aufweist, mittels welchen die Substrate (36,38,40,42) in den Behandlungskammern (6,8,10,12) schwenk- und/oder rotierbar sind. <IMAGE>
|
