| 发明名称 | 微透镜一次掩模成形方法 | ||
| 摘要 | 微透镜一次掩模成形方法，其特点在于将圆形作为掩模的单元图形，使微透镜的口径等于所述的圆形单元图形的直径，然后在微透镜的制作工艺过程中，只进行一次X和Y方向互相垂直的曝光。而且在移动曝光过程中不需要旋转、对准掩模，最后进行显影，坚膜即形成所需的微透镜阵列。本发明避免了移动掩模法中，由于存在两次交叉、对准曝光而导致的透镜正交性问题。使透镜阵列的正交性误差减小到了极限，同时也降低了微结构制作过程中工艺复杂程度，为制作用于与其他探测器件相耦合的、正交性要求很高的微透镜阵列提供了途径。 | ||
| 申请公布号 | CN100351653C | 申请公布日期 | 2007.11.28 |
| 申请号 | CN03123578.6 | 申请日期 | 2003.05.29 |
| 申请人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明人 | 董小春;杜春雷 |
| 分类号 | G02B3/08(2006.01);G03F7/00(2006.01) | 主分类号 | G02B3/08(2006.01) |
| 代理机构 | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人 | 刘秀娟;卢纪 |
| 主权项 | 权利要求书1、微透镜一次掩模成形方法，其特征包括下列步骤：(1)将圆形作为掩模的单元图形；(2)使微透镜的口径等于所述的圆形单元图形的直径；(3)制作微透镜，在制作工艺过程中，第一次曝光完成后直接开始垂直方向的移动曝光；(4)在移动曝光过程中不需要旋转、对准掩模；(5)显影，坚膜。 | ||
| 地址 | 610209四川省成都市双流350信箱 | ||