发明名称 | 料浆处理体系和方法 | ||
摘要 | 本发明公开了处理来自半导体加工操作的废水流,将其中的一种或多种金属物质的浓度降低至令人满意的含量。所公开的体系和技术使用络合离子交换介质处理含有高浓度氧化物质的废水流。 | ||
申请公布号 | CN101636355A | 申请公布日期 | 2010.01.27 |
申请号 | CN200680036608.3 | 申请日期 | 2006.07.07 |
申请人 | 西门子水处理技术公司 | 发明人 | M·W·维斯默;R·伍德林;J·C·戴 |
分类号 | C02F1/42(2006.01)I | 主分类号 | C02F1/42(2006.01)I |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘 冬;林 森 |
主权项 | 1.一种处理料浆流的方法,所述方法包括:提供包含浓度至少为约50mg/l的至少一种金属和至少一种氧化剂的料浆流;和将所述料浆流引入离子交换柱。 | ||
地址 | 美国宾夕法尼亚州 |