| 摘要 |
본 발명은 화학 기계적 연마 장치의 캐리어 헤드 및 이에 사용되는 멤브레인에 관한 것으로, 본체와; 상기 본체와 함께 회전 구동되는 베이스와; 상기 베이스의 둘레를 감싸는 링 형태로 형성되고, 상기 본체와 상기 베이스 중 어느 하나에 지지되도록 설치되어, 상기 본체와 함께 회전 구동되는 리테이너 링과; 화학 기계적 연마 공정 중에 저면이 웨이퍼의 판면과 접촉하는 바닥판과, 상기 바닥판의 반경 끝단부에서 절곡 형성된 측면으로 이루어지고, 상기 측면에는 상기 리테이너 링에 고정되는 제1고정플립과 상기 베이스에 고정되는 제2고정플립이 연장 형성되어 상기 측면의 상측에 가압 챔버를 형성하고, 상기 베이스와의 사이 공간에 압력 챔버를 형성하는 멤브레인을; 포함하여 구성되어, 브레인의 측면 상측에 가압 챔버가 위치함으로써, 가압 챔버의 압력 조절을 통해 도입되는 힘의 전부를 웨이퍼의 가장자리 끝단을 가압하는 수직 가압력으로 사용할 수 있게 되므로, 정확한 수직 가압력을 웨이퍼의 가장자리에 도입할 수 있는 화학 기계적 연마 장치의 캐리어 헤드 및 이에 사용되는 멤브레인을 제공한다. |
