| 摘要 |
マイクロリソグラフィ装置（１０）は、投影光路における光照射分布を可変的に修正するように構成された透過フィルタ（４２）を含む対物系（２０）を含む。透過フィルタ（４２）は、マイクロリソグラフィ装置（１０）の作動中に投影光（ＰＬ）が通って伝播する空間（５５）を通過するガス流れ（７２，１７２）を放出するように構成された複数のガス出口開口（４４，１４４）を含む。透過フィルタ（４２）は、更に、ガス流れ（７２，１７２）内のオゾン分子の数密度を各ガス流れに対して個々に変化させるように構成された制御ユニット（４８）を含む。このようにして、透過フィルタ（４２）の透過率分布（ＴＤ４２）を最終的に調節することが可能である。【選択図】図４ |
